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　　高純氣體分析色譜適用范圍
　　高純氣體分析色譜適用于高純氣體和電子工業用氣體中痕量雜質的檢測，zui小檢測濃度可達5ppb。高純氣體分析色譜配備高靈敏的氦離子化檢測器，采用*的中心切割技術，進樣閥均帶有吹掃保護氣路；整機采用多柱箱設計，并配備進樣壓力自動校正系統，保證不同底氣的樣品的進樣量一致。
　　高純氣體分析色譜適用于高純氫、氧、氬、氮、氦、氖、氪、氙、二氧化碳等氣體中痕量雜質的檢測，高純氣體分析色譜配備高靈敏度的氦離子化檢測器，采用中心切割與反吹技術，配置具有吹掃保護氣路的進樣切換閥和進口氦氣純化器，通過無死體積取樣或在線進樣方式，一次性完成上述高純氣體中H2、O2（Ar）、N2、CH4、CO、CO2等常見雜質或C1-C4等碳氫化合物的檢測，檢測限達ppb級，重復性RSD≤1％。